Samsung вече има готов процес на производство в 8 nm

Samsung е един от световните лидери в производството на силиконови чипове и няма намерение да хвърля кърпата, южнокорейският гигант вече е готов нов процес на по-усъвършенствано производство, за да подобри работата на своите чипове и тези на трети страни, които прибягват до леярната му.

Samsung вече има готовност за 8 nm

Samsung официално разкри, че новият му 8nm LPP (Low Power Plus) производствен процес е готов за производство на първите чипове, този нов процес предлага до 10% увеличение на производителността в сравнение с текущия 10nm процес на компанията и до 10% намаляване на транзисторите.

Този възел е усъвършенстване на съществуващия 10nm производствен възел на Samsung, което прави този процес всъщност 10nm +, но промяна на името се прилага за маркетинг, тъй като ние помним, че няма стандарт, когато става въпрос за Измерете размера на транзисторите, така че всяка леярна да може да го изрази по различен начин. Това означава, че производствените процеси на две компании могат да бъдат много различни, въпреки че очевидно са еднакви nm.

Изпълнителният директор на NVIDIA казва, че законът на Мур е мъртъв и графичните процесори ще заменят процесорите

Предимствата на този нов технологичен възел е фактът, че той се основава на съществуващата технология на Samsung, което позволява на Samsung бързо да ускори производството на 8nm, като адаптира съществуващата си 10 nm технология. Samsung също успя да премине квалификация с този нов възел три месеца предсрочно, което позволява на компанията да произвежда 8nm функционални чипове предсрочно.

8nm ще бъде последният възел на Samsung преди преместването му в EUV (Extreme Ultra Violet) със своя 7nm производствен възел, като въведе нова ера за закона на Мур, което позволява на производителите да нарушат някои от ограниченията, които са били спиране на напредъка в индустрията.

7LPP ще бъде първата технология за полупроводникови процеси, използваща решение за литография на EUV. Усилията за съвместна работа на Samsung и ASML разработиха 250W максимална мощност на EUV, което е най-важният момент за включване на EUV в производство с голям обем. Разгръщането на EUV литография ще преодолее бариерите на закона на Мур, проправяйки пътя за поколенията на единични нанометрови полупроводникови технологии.

Overlock3d шрифт